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从理论上讲，另一个时空的光刻机可以通过沉浸技术将193纳米提升到132纳米，那么如今365纳米设备就可以提升到248nm，而248纳米则可以提升到161纳米。

从实际上讲，这项技术也可以立刻将当前的光刻技术提升百分之十五到百分之三十。

也就是说，仅靠这项技术，也足以填平或者跨越一代代差。

在另一个时空该项技术被IBM率先应用于45纳米节点商用芯片制造，紧跟着ASML、尼康等厂商很快都在193纳米沉浸原型系统取得了突破，可见技术难度其实并不太大。

只不过目前光刻机的制程还远没有达到瓶颈，因此对于这些“邪修招数”，所有厂商都是等到制程抵达193纳米瓶颈后才启动的研制计划，目前对这技术还没有重视。

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